近日，韓國DRAM內存芯片巨頭SK海力士宣布，位於江蘇無錫的第二工廠(C2F)已經竣工，產出的第一批晶圓良品率也符合預期，計劃今年5月正式投入量產。SK海力士是江蘇省單體投資規模最大的外企，雙方合作已經超過14年，累計投資額超105億美元。

就在日前，SK海力士剛剛宣布將一方面提高第一代10nm級工藝(1xnm)內存芯片的產能，另一方面今年下半年開始銷售基於第二代10nm級工藝(1ynm)的內存芯片。

SK海力士無錫二廠項目2016年12月宣布，2017年10月簽約，2017年6月開工，2018年11月開始設備遷入，總投資達86億美元，其中16億美元用於建設3.3萬平米的新廠房和附屬設施，70億美元用於引入全球最先進的內存芯片生產設備。

作為現有工廠(C2)的延伸項目，新工廠建設週期2017-2026年，全部完成後將成為全球單體投資規模最大、月產能最大、技術最先進的10nm級別工藝內存芯片生產基地，月產能可達18萬塊300毫米晶圓，年銷售額可達33億美元。

目前，SK海力士佔有中國內存芯片市場大約35％的份額，無錫二廠投用後預計可升至超過45％。