如今，業界不斷刷新著納米芯片的記錄，這無疑將在未來計算上帶給我們更多的可能性。為此，各國科研人員不斷進行著努力。近日，一個國際研究團隊在報告中表示，自己在製造納米芯片方面取得了突破性進展，或將為納米芯片的生產以及全球所有納米技術實驗室，帶來重大影響。

據悉，該個研究團隊由美國紐約大學坦頓​​工程學院化學和生物分子工程教授Riedo帶隊，他們證明了使用加熱到攝氏100度以上的探頭的光刻技術，要優於在二維半導體（例如二硫化鉬（MoS2））上製造金屬點擊的方法，成本更低，有望成為當今電子束光刻的替代品。

該團隊將這種新製造方法稱為熱掃描探針光刻（t-SPL），其與當今的電子束光刻（EBL）相比具有更多的優勢：首先，熱光刻顯改善了二維晶體管的質量，抵消了肖特基勢壘，阻礙了金屬與二維襯底交界處的電子流動；與電子束光刻（EBL）不同，熱光刻技術使芯片設計人員能夠輕鬆地對二維半導體進行成像，之後在需要的地方對電極進行圖案化； 此外，熱掃描探針光刻（t-SPL）製造系統有望在初期節省成本；最後，通過使用平行熱探針，能夠輕鬆地將該熱製造方法推廣到批量的工業生產當中。

上圖是Elisa Riedo教授和博士生劉翔宇，在紐約大學Tandon工程學院PicoForce實驗室，使用他們發明的熱掃描探針光刻工藝和SwissLitho的NanoFrazor設備製造高質量的2D芯片。

Riedo博士希望t-SPL最終可以從實驗室走向工廠批量製造，為實現這個願景仍需要研究人員繼續努力，快速推進材料科學與芯片設計。有一天，這些t-SPL工具的分辨率將低於10納米，在標準的環境條件下以120伏電源運行。

其實，Riedo在熱探測方面的經驗可以追溯到十多年前，先是在IBM Research-Zurich，後來才到紐約城市大學（CUNY）研究生中心高級科學研究中心（ASRC）探索金屬納米製造的熱光刻，與該論文的共同第一作者，Xiao rui Zheng和Annalisa Calò一起工作，並擁有瑪麗居里獎學金。