酷睿Ultra 200S核心細節曝光:台積電幾乎包圓Intel只貢獻22nm基板
代號Arrow Lake的酷睿Ultra 200S系列已經發布多時,我們終於看到了其內核佈局的細節,包括不同模組的安排、具體的製造工藝和麵積。

Arrow Lake採用了chiplet芯粒設計,分為四個不同模組,都是台積電製造,是第一個幾乎完全採用外部代工的產品。
Compute Tile計算模組:台積電N3B 3nm工藝,面積117.241平方毫米。
GPU Tile核顯模組:台積電N5P 5nm工藝,面積23平方毫米。
SoC Tile系統單元模組:台積電N6 6nm工藝,面積86.648平方毫米。
IO Tile輸入輸出模組:台積電N6 6nm工藝,面積24.475平方毫米。
另外,角落還有兩個填充模組,用於補充與支撐整體結構,方便封裝,面積分別為2.5平方毫米、17.47平方毫米。
所有模組之下是基板(中介層),Intel 16製程製造,也就是在原有22FFL 22nm基礎上升級而來的(P1227.1B),面積302.994平方毫米。

這是計算模組的具體佈局,可以看到八個P核、16個E核,其中後者分為四個集群,與P核交錯分佈,都掛在中央的Ring Agent環形總線上。
二級快取每個P核心有3MB,每組四個E核心共享4MB,並分為1.5MB、1.5MB、1MB三個部分,整體合計40MB。
三級快取則是每個P核心、每組E核有3MB,合計36MB。

核顯模組相比於Meteor Lake上的幾乎沒變,還是四個Alchemist架構的Xe-LPG核心,每個核心內部有八組Dual-XVE計算引擎,還分佈著不同規模的一二級快取。
SoC模組較為複雜,包括第三代NPU引擎、DDR5記憶體控制器、媒體引擎、顯示引擎、USB控制器、PCIe 5.0 x4/x12物理層。
IO模組就比較簡單了,服務於雷電4和更多的PCIe,包括兩組PCIe 5.0 x4物理層以及緩衝,PCIe 4.0 x8物理層,雷電4物理層、緩衝、顯示物理層。