印度提交「埃級」晶片議案發力1nm以下工藝
印度聯合新聞社發布文章表示,印度頂尖研究機構印度科學研究所(IISc)的30名科學家團隊聯合向政府提交了一份開發「埃級」晶片的議案,該晶片的尺寸遠小於目前生產的最小晶片。

該報社表示,目前,半導體製造業以矽基技術為主,由美國、日本、韓國和中國台灣等已開發國家和地區引領;而最小的晶片已經發展到3nm的工藝水平,主要由三星、台積電、英特爾等公司生產,印度在半導體製造方面嚴重依賴外國企業。
據悉,在議案中,科學家團隊旨在開發一種名為「2D Materials」的技術,可使晶片尺寸縮小至目前全球生產的最小晶片尺寸的十分之一,相當於1nm以下,並鞏固印度在半導體領域的領先地位。
2022年4月,IISc的科學家團隊曾提交一份詳細的專案報告(DPR),該報告經過修改後,於2024年10月再次提交。
DPR建議利用石墨烯和過渡金屬二硫化物(TMD)等超薄材料開發二維半導體,這些材料可以實現「埃級」晶片製造,比目前的奈米級技術小得多。
目前,印度最大的半導體計畫由塔塔電子與台灣力積電合作設立,投資額達9,100億盧比,該計畫已獲批准印度半導體計劃,並擁有政府50%的資金支持。而IISc此次主導的提案近要求印度政府在五年內撥款50億盧比,金額相對較低。
「2D Materials」在全球引發廣泛關注,該報社表示,目前歐洲已投資超過10億美元(約合830億盧比),韓國投資超過3億盧比,中國和日本等國家也對基於「2D Materials」的半導體研究進行了大規模的投資,但金額並未公開。
印度相關官員指出,隨著傳統矽晶片已經逼近極限,一些國家已經在為後矽時代做準備,全球科技企業也會將目光注意到「2D Materials」。