在上海國家會展中心舉行的2025中國國際半導體設備與材料展（SEMICON China 2025）上，深圳新凱來工業機器有限公司（SiCarrier，以下簡稱「新凱來」）成為全場焦點。新凱來透過照片和模型的方式展示了其多款產品，其中最受關注的五大核心設備，均以中國名山命名，技術對標國際頂尖水平。包括：

外延沉積設備EPI「峨眉山」：專攻第三代半導體（SiC、GaN）材料，支援1200V-6500V高壓晶片製造，與深圳第三代半導體創新中心中試線協同驗證；EPI外延層是半導體製造的重要技術。

刻蝕設備ETCH「武夷山」：搭載自研靜電卡盤專利（CN119069414A），表面電荷釋放速度提升40%，良率顯著提升；ETCH蝕刻是半導體製造工藝，微電子IC製造工藝以及微納製造工藝中的一道相當重要的步驟。薄膜沉積設備CVD「長白山」：整合反射結構專利（CN119620268A），體積縮小30%的同時效率提升，已通過ISO 9001認證；CVD化學氣相沉積是半導體製造中需求量最大的設備之一。

物理氣相沉積設備PVD「普陀山」：適配12吋晶圓，定位精度達±1.3μm，性能對標國際主流。

原子層沉積設備ALD「阿里山」：支援7nm以下先進製程，已通過中芯國際（深圳）產線驗證。

這是新凱來自成立以來，第一次向外界大規模進行產品與技術展示。新凱來稱其設備“100%自主可控”，包括機器控制系統、關鍵元件等，全都為自主研發或透過戰略合作夥伴取得。此次雖未官宣設備可支援製程節點，但有現場工作人員透露，包括未列入產品清單的蝕刻工具在內，部分設備已可支援至5奈米製程。

圖源：新凱來

去年3月，彭博社稱，華為與一家名為「新凱來」的半導體設備廠商，為一種技術複雜度低，但能有效製造先進晶片的方法，申請了專利。這種方案在沒有極紫外光的支持下，透過多重曝光，嘗試生產5nm晶片。

資料顯示，新凱來工業機器成立於2022年，母公司新凱來技術有限公司成立於2021年，由深圳市重大產業投資集團全資控股，而後者隸屬於深圳國資委。深圳市重大產業投資集團也是鵬芯微以及昇維旭等的主要支持者。

近日，新凱來宣布已完成13類關鍵量檢測產品開發，並在國內邏輯、儲存和化合物的主要半導體製造業開始量產應用。新凱來量檢測裝備產品線總裁酈舟劍在接受媒體採訪時表示，“當前首要解決先進製程問題，國外工藝節點已經走的更領先，我們也會朝這個方向持續地努力，這需要時間，但我們有信心。”