ASML將出貨最新EUV光刻機EXE:5200 英特爾是買家
ASML已經確認,即將出貨最新的EUV光刻機EXE:5200,相較於上代來說,表現更加強悍,當然不會賣給中國廠商。根據官方的說法,EXE:5200是現有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改良款,將擁有更高的晶圓吞吐量(EXE:5000為每小時185片以上),可以更好的為2nm製程量產做支撐。
在這之前,ASML宣布英特爾訂購了業界首個TWINSCAN EXE:5200光刻機(一種具有高數值孔徑和每小時200 多片晶圓的極紫外線(EUV) 大批量生產系統),這標誌著他們在引入0.55 NA EUV的道路上又邁出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200都提供了0.55數值孔徑,比前代EUV光刻機0.33數值孔徑透鏡的精度提高了,可以為更小的電晶體功能提供更高分辨率的模式。
EUV 0.55 NA 的設計旨在從2025年開始實現多個未來節點,這是業界首次部署,隨後將採用類似密度的記憶體技術。
