ASML最先進EUV光刻機今年訂單已經被Intel包攬，其單台售價超過了25億元。據悉，ASML截至明年上半年最先進EUV設備的訂單已經由英特爾承包，而今年計畫生產的五套設備也將全部運送給這家美國晶片製造商。

根據消息人士的說法，由於上述EUV設備產能每年約為5到6台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。

這也導致，英特爾的競爭對手三星和SK 海力士預計將在明年下半年才能獲得該設備。

High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產品的1/1.7。

更細的線條意味著晶片可以容納更多的晶體管，從而實現更快的處理速度和更高的儲存容量，這對於人工智慧工作負載至關重要。

這台EUV已於去年底運抵其位於俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在2025年底開始使用該系統進行生產。