阿斯麥公告:最先進的浸潤式DUV光刻系統出口需經荷蘭政府許可
阿斯麥30日發佈公告稱,荷蘭政府今天公佈了關於半導體設備出口管制的新規定。正如三月初宣布的那樣,新的出口管制重點關注先進的芯片製造技術,包括最先進的沉積和浸沒式光刻系統。由於這些出口管制法規,ASML將需要向荷蘭政府申請其最先進的浸潤式DUV光刻系統(TWINSCAN NXT:2000i及後續浸潤式系統)的出口許可證。
荷蘭政府將決定是否批准或拒絕所需的出口許可證,並就任何適用的條件向該公司提供進一步的細節。
ASML提醒,其EUV系統銷售已受到限制。其他ASML系統出貨不受荷蘭政府控制。ASML將繼續遵守適用的出口法規,包括荷蘭、歐盟和美國法規。
荷蘭新出口管制法規將於2023年9月1日生效。ASML可以在此日期之前開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將根據具體情況批准或拒絕這些申請。
截至發稿,美股盤前阿斯麥股價下跌1.79%,市值跌至2806.04億美元(約合人民幣2.04萬億元),蒸發約51.19億美元(約合人民幣371.96億元)。