EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現在三星與韓國半導體廠商東進合作開發成功EUV光刻膠，已經通過驗證。 東進半導體19日宣佈，近期通過了三星電子的EUV PR（光刻膠）可靠性測試。

消息人士稱，東進半導體在其位於京畿道華城的工廠開發了EUV PR，並在三星電子華城 EUV生產線上對其進行了測試，並已通過可靠性測試。

PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料。

它應用於晶片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發生化學反應並改變物理性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪製微電路，只留下必要的部分。

2019年，日本與韓國爆發爭議之後曾經限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發。

雖然已經通過了測試，不過三星是否會在EUV生產線上立即使用東進半導體的EUV光刻膠還不確定，三星及東進拒絕表態。