在三星、SK海力士開始啟用EUV光刻機閃存內存芯片之後，美光現在也要加入了，跟ASML談判採購EUV光刻機，2024年生產新的EUV內存芯片。美光科技總裁兼首席執行官桑傑·梅赫羅特拉(Sanjay Mehrotra)在日前的財報會上表示，美光一直在關注EUV工藝進展，實際上之前也參與了EUV評估，一旦觀察到EUV平台及生態系統成熟，美光也會在產品路線圖中插入EUV光刻技術。

現在美光已將2021財年的治本指出略微提升到95億美元，已經開始跟ASML公司談判購買EUV光刻機，不過現在還沒有公佈細節，EUV現在供應緊張，台積電、三星採購的較多，美光還要等等。

根據美光的計劃，EUV光刻工藝要到2024年才會導入，首髮用於1-Gama工藝的內存，後面還會進一步擴展到更下一代的1-Delta工藝內存芯片中。

美光日前發布了2021 財年Q3 財報，截至6 月3 的季度中公司營收74.2 億美元，同比增長19%， 淨利潤17.4 億美元，相比去年同期的8 億美元大漲116%。