在日前的投資者會議上，Intel宣布了未來三年的CPU、GPU及半導體工藝路線圖，除了14nm及10nm工藝之外，Intel更是首次宣布了7nm工藝的進展，不僅會用上EUV光刻工藝，而且2021年就能量產了。只不過首款7nm EUV工藝的產品是GPU而非預期中的CPU，為何這樣？Intel解釋說GPU在使用新工藝時風險更低，製造更簡單。

10nm今年上陣，明後年將接連出現10nm+、10nm++；7nm 2021年登場，2022年、2023年則連續推出7nm+、7nm++。

那麼，Intel 2021年的首款7nm工藝產品是什麼呢？不是CPU處理器，而是GPU顯卡，確切地說是基於Xe架構、採用EMIB 2D整合封裝和Foveros 3D混合封裝、面向數據中心AI和高性能計算的GPGPU通用計算加速卡。

作為一家CPU為主的公司，Intel為何在新一代工藝上首發GPU而非CPU呢？這個問題想必大家都很好奇，Intel高級副總裁Venkata Renduchintala在事後解釋過他們的選擇，理由就是在使用新一代工藝時，特別是EUV光刻工藝上，首發GPU是因為風險更低，缺陷問題更容易解決，哪怕犧牲一點性能。

從Intel的表態來看，他們也是吸取了10nm工藝難產的教訓了，7nm EUV是新一代工藝，不會冒然使用新工藝去生產難度更高的CPU，而是選擇GPU產品試水，控制新工藝量產的風險，以便為CPU上馬7nm EUV工藝積累經驗及教訓。